સીઝિયમ સલ્ફેટનો ઉપયોગ

આજના ઔદ્યોગિક ઉત્પાદનમાં દવા અને ઉત્પ્રેરકના ક્ષેત્રોમાં સીઝિયમ ક્ષારનો વ્યાપક ઉપયોગ થાય છે;સિન્ટિલેશન ક્રિસ્ટલ ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક્સ ઉદ્યોગ અને ઉચ્ચ-ઊર્જા ભૌતિકશાસ્ત્ર ઉદ્યોગ, સીઝિયમ સલ્ફેટ રાસાયણિક સૂત્ર Cs2SO4.મોલેક્યુલર વજન 361.87 છે.રંગહીન ઓર્થોરોમ્બિક અથવા હેક્સાગોનલ સ્ફટિકો.ગલનબિંદુ 1010 ℃ છે, અને સંબંધિત ઘનતા 4.243 છે.600 ℃ પર, ઓર્થોરોમ્બિક સિસ્ટમ હેક્સાગોનલ સિસ્ટમમાં રૂપાંતરિત થાય છે.પાણીમાં દ્રાવ્ય, ઇથેનોલ અને એસીટોનમાં અદ્રાવ્ય.સીઝિયમ સલ્ફેટ એ રંગહીન રોમ્બિક અથવા સફેદ સોય આકારનું સ્ફટિક છે, જેનો ઉપયોગ વિવિધ સીઝિયમ ક્ષાર તૈયાર કરવા માટે મૂળભૂત કાચા માલ તરીકે થાય છે.મુખ્યત્વે વિશ્લેષણાત્મક રીએજન્ટ્સ, લીડ અને ત્રિસંયોજક ક્રોમિયમના માઇક્રોએનાલિસિસ માટે વપરાય છે;ખાસ કાચ;સિરામિક્સ;ઉત્પ્રેરકના પ્રમોટર.સીઝિયમ સલ્ફેટનો ઉપયોગ વિશ્લેષણાત્મક રીએજન્ટ અને કેટલાક ઉત્પ્રેરક તરીકે ઘણા વર્ષોથી કરવામાં આવે છે.

Anhui Fitech Materials Co., Ltd દ્વારા પ્રદાન કરવામાં આવેલ સીઝિયમ સલ્ફેટનો ઉપયોગ મિનરલ વોટર બનાવવા અને બનાવવા માટે થાય છે અને વેનેડિયમ અથવા વેનેડિયમ પેન્ટોક્સાઇડ સાથે મળીને તેનો ઉપયોગ સલ્ફર ડાયોક્સાઇડના ઓક્સિડાઇઝિંગ માટે ઉત્પ્રેરક તરીકે થઈ શકે છે.

1) સીઝિયમ હાઇડ્રોક્સાઇડનું ઉત્પાદન.સીઝિયમ હાઇડ્રોક્સાઇડ એ વિવિધ સીઝિયમ ક્ષાર અને મેટલ સીઝિયમ તૈયાર કરવા માટેની મૂળભૂત સામગ્રી છે.તેના અનન્ય પ્રદર્શનને કારણે, તેનો ઉપયોગ બાયોએન્જિનિયરિંગ, ઉત્પ્રેરક ઉદ્યોગ, બેટરી અને અન્ય ઉદ્યોગોમાં વધુને વધુ થાય છે.
2) ઇંધણ કોષો માટે મધ્યમ તાપમાન ઇલેક્ટ્રોલાઇટ પટલ તૈયાર કરવામાં આવે છે.આ પદ્ધતિમાં, સીઝિયમ બાયસલ્ફેટ ક્રિસ્ટલ સીઝિયમ સલ્ફેટ અને સલ્ફ્યુરિક એસિડમાંથી તૈયાર કરવામાં આવે છે, અને તેને પાવડરમાં ગ્રાઉન્ડ કરવામાં આવે છે, અને પછી સીઝિયમ બાયસલ્ફેટ ફિલ્મ ગરમ દબાવીને ફિલ્મ દ્વારા તૈયાર કરવામાં આવે છે, અને પછી સીઝિયમ બાયસલ્ફેટ ફિલ્મની સપાટી પર એલોય સ્તરનો એક સ્તર બનાવવામાં આવે છે. મેટલ અથવા મેટલ એલોયના બાષ્પીભવન કોટિંગ દ્વારા, જેનો ઉપયોગ મધ્યમ તાપમાનની ઇલેક્ટ્રોલિટીક પ્લાઝ્મા ફિલ્મ તૈયાર કરવા માટે થઈ શકે છે.
3) કોલ્ડ કેથોડ ફ્લોરોસન્ટ લેમ્પ ઇલેક્ટ્રોડની એક પ્રકારની આંતરિક કોટિંગ ફિલ્મ તૈયાર કરવામાં આવે છે.સીઝિયમ સલ્ફેટ ડાર્ક લિક્વિડ દવા કોલ્ડ કેથોડ ફ્લોરોસન્ટ લેમ્પના ઇલેક્ટ્રોડ કપમાં ડ્રોપર અને સોય દ્વારા હાઇ-પ્રેશર બ્લોઅર દ્વારા પ્રવેશ કરે છે.ઇલેક્ટ્રોડ કપમાં શ્યામ પ્રવાહી દવાનું પ્રવાહી સ્તર ઇલેક્ટ્રોડ કપની ઊંચાઈના 2/34/5 જેટલું નિયંત્રિત થાય છે.જ્યારે ડાર્ક લિક્વિડ દવા સેટ લેવલ પર પહોંચે છે, ત્યારે વધારાની ડાર્ક લિક્વિડ દવા ચૂસવામાં આવે છે, અને ઇલેક્ટ્રોડની અંદરની કોટિંગ ફિલ્મને પૂર્ણ કરવા માટે ઇલેક્ટ્રોડ કપને 250 ℃ પર સૂકવવામાં આવે છે અને કોટ કરવામાં આવે છે.